Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) (Q1659433): Difference between revisions

From wikibase-docker
Jump to navigation Jump to search
(‎Created a new Item: Document Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) added by Lapacz)
 
(‎Changed label, description and/or aliases in en, pl, and other parts: Updating entity Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) with Lapacz)
aliases / en / 0aliases / en / 0
 
Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
aliases / en / 1aliases / en / 1
 
PECVD
aliases / en / 2aliases / en / 2
 
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
aliases / pl / 0aliases / pl / 0
 
Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
aliases / pl / 1aliases / pl / 1
 
PECVD
aliases / pl / 2aliases / pl / 2
 
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Property / Version
 
Yaromir
Property / Version: Yaromir / rank
 
Normal rank

Revision as of 21:16, 23 September 2023

No description defined
  • Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
  • PECVD
  • Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Language Label Description Also known as
English
Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD)
No description defined
  • Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
  • PECVD
  • Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)

Statements

Yaromir
0 references