Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) (Q1659433): Difference between revisions
Jump to navigation
Jump to search
(Created a new Item: Document Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) added by Lapacz) |
(Changed label, description and/or aliases in en, pl, and other parts: Updating entity Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) with Lapacz) |
||
aliases / en / 0 | aliases / en / 0 | ||
Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym | |||
aliases / en / 1 | aliases / en / 1 | ||
PECVD | |||
aliases / en / 2 | aliases / en / 2 | ||
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) | |||
aliases / pl / 0 | aliases / pl / 0 | ||
Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym | |||
aliases / pl / 1 | aliases / pl / 1 | ||
PECVD | |||
aliases / pl / 2 | aliases / pl / 2 | ||
Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD) | |||
Property / Version | |||
Yaromir | |||
Property / Version: Yaromir / rank | |||
Normal rank |
Revision as of 21:16, 23 September 2023
No description defined
- Metoda CVD ze wspomaganiem plazmowym
- PECVD
- Plasma enhanced chemical vapor deposition (PECVD)
Language | Label | Description | Also known as |
---|---|---|---|
English | Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD) |
No description defined |
|
Statements
Yaromir
0 references