Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD) (Q832674): Difference between revisions

Latest revision as of 18:53, 1 December 2023

No description defined

Language	Label	Description	Also known as
English	Chemiczne osadzanie z fazy gazowej (CVD)	No description defined	Chemical vapour deposition CVD Osadzanie chemiczne warstw z fazy gazowej Chemical vapor deposition (CVD)

a0000002450497

0 references

0 references

0 references

0 references

0 references

0 references

0 references

0 references

P38495T31790

0 references

@@ Property / P4 (Deleted Property) @@
-Inżynieria powierzchni Property P4 not found, cannot determine the data type to use.
-Normal rank
@@ Property / Type @@
-Unknown
@@ Property / Type: Unknown / rank @@
-Normal rank
@@ Property / Version @@
-Kalkstein
@@ Property / Version: Kalkstein / rank @@
-Normal rank
@@ Property / National Library Identifier @@
+a0000002450497
@@ Property / National Library Identifier: a0000002450497 / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Inżynieria powierzchni
@@ Property / Related Subject: Inżynieria powierzchni / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD)
@@ Property / Related Subject: Fizyczne osadzanie z fazy gazowej (PVD) / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Powłoki ochronne
@@ Property / Related Subject: Powłoki ochronne / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Chemiczne osadzanie z fazy gazowej ze wspomaganiem plazmowym (PECVD)
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Epitaksja z fazy gazowej z użyciem związków metaloorganicznych (MOVPE)
+Normal rank
@@ Property / Related Subject @@
+Osadzanie warstw atomowych (ALD)
@@ Property / Related Subject: Osadzanie warstw atomowych (ALD) / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Type @@
+Unknown
@@ Property / Type: Unknown / rank @@
+Normal rank
@@ Property / Version @@
+P38495T31790
@@ Property / Version: P38495T31790 / rank @@
+Normal rank